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NK-800系列激光过程气分析系统是基于半导体激光吸收光谱（DLAS）技术的过程气体分析系统，能够在各种环境（尤其是高温、高压、高粉尘、强腐蚀等恶劣环境下）进行气体浓度等参量的在线测量，并具有准确性高、相应速度快、可靠性高、运行费用低等特点，为生产优化、能源回收、安全控制、环保监测和科研分析带来极大的方便，在钢铁冶金、石油化工、环境保护和能源电力等行业已得到广泛的应用。
激光气体分析仪原理：
半导体激光吸收光谱技术—利用激光能量被气体分子“选频"吸收形成吸收光谱的原理来测量气体浓度。半导体激光器发射出特定波长激光束（仅被被测气体吸收），穿过被测气体时，激光强度的衰减与被测气体浓度成一定函数关系，因此，通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得被测气体的浓度。
激光过程气分析系统特点：
1、无需采样，现场测量
2、响应速度快（<2秒）
3、测量精度高（≤±1%）
4、不受背景气体交叉干扰
5、自动修正粉尘及光学视窗污染影响
6、结构简单紧凑、可靠性高，操作维护方便，运行费用低
7、模块化设计，可现场更换所有功能模块
8、安装方式灵活（可选抽取式、原位式）
9、不受背景气体交叉干扰的影响
10、自动修正粉尘和视窗污染对测量浓度的影响
11、消除气体环境参数（温度和压力等）变化对测量的影响
激光原理不同气体测量参数：
气体 | 测量精度 | 测量范围 |
O2 | 100ppm | 0-1% Vol.,0-100%Vol. |
C O | 10 ppm | 0-1000ppm,0-100%Vol. |
C O2 | 10 ppm | 0-2000ppm,0-100%Vol. |
H2O | 0.3 ppm | 0-10ppm,0-100%Vol. |
H2S | 20 ppm | 0-200ppm,0-100%Vol. |
HF | 0.02 ppm | 0-1ppm,0-100%Vol. |
HCl | 0.1 ppm | 0-7ppm,0-100%Vol. |
HCN | 0.3 ppm | 0-20ppm,0-1%Vol. |
NH3 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-100%Vol. |
CH4 | 0.4 ppm | 0-200ppm,0-100%Vol. |
C2H2 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-100%Vol. |
C2H4 | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-100%Vol. |
C H3l | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-100%Vol. |
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